621.793 У 67 Упрочняющие и восстанавливающие покрытия [Text] / Гун, Г.С. [et al.]. - Челябинск : Металлургия, 1991. - 160 с. : ил. - Библиогр.:с. 156-160 (100 назв.). - ISBN 5-229-00969-1 : 100-00 р.
Кл.слова (ненормированные): Покрытия металлов-Технология формирования Доп.точки доступа: Гун, Г.С.; Кривощапов, В.В.; Чукин, М.В.; Адамччук, В.С.; Цун, А.М. Экземпляры всего: 1 КХ (1) Свободны: КХ (1) |
621.793 Г 13 Газотермические покрытия [Text] / Анциферов, В.Н. [et al.]. - Екатеринбург : Наука, 1994. - 319 с. - Библиогр.:294-316. - ISBN 5-02-007359-8 : 3000-00 р.
МЕТАЛЛУРГИЯ--ПОРОШКОВАЯ МЕТАЛЛУРГИЯ Кл.слова (ненормированные): Газотермические покрытия -- Напыление металлопокрытий газотермическое -- Покрытия газотермические -- Порошковая металлургия Доп.точки доступа: Анциферов, В. Н.; Шмаков, А. М.; Агеев, С. С.; Буланов, В. Я. Экземпляры всего: 4 ОХиИФ (1), ООЛ (3) Свободны: ОХиИФ (1), ООЛ (3) |
621.79 С 95 Сыркин, В. Г. CVD-метод. Химическое парофазное осаждение [Text] / В. Г. Сыркин ; РАН, Ин-т металлоорган. химии им. Г. А. Разуваева. - Москва : Наука, 2000. - 496 с. : ил., табл. - Библиогр.: с. 467-491. - ISBN 5-02-001683-7 (в пер.) : 60.00 р.
Кл.слова (ненормированные): металлизация -- химическая металлизация -- гальваническая металлизация -- диффузионная металлизация -- металлизация в вакууме -- газофазная металлизация -- химическое осаждение -- металлические пленки -- металлические материалы -- металлические покрытия -- металлические подложки -- хромовые покрытия -- молибденовые покрытия -- вольфрамовые покрытия -- никелевые покрытия -- кристаллы -- вискеры -- металлические порошки -- металлосодержащие соединения -- карбонилы металлов -- металлоцены -- анкилы металлов -- галогениды металлов -- неразрушающий контроль Экземпляры всего: 1 ОХиИФ (1) Свободны: ОХиИФ (1) |
621.793 Б 49 Берлин, Е. В. Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением [Текст] : научное издание / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2014. - 255, [1] с. : ил., табл., схемы. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр.: с. 242-255. - ISBN 978-5-94836-369-1 (в пер.) : 568.70 р.
Кл.слова (ненормированные): тонкие пленки -- реактивное магнетронное распыление -- физические процессы -- технологии Доп.точки доступа: Сейдман, Л. А. Экземпляры всего: 2 ОХиИФ (1), ООЛ (1) Свободны: ОХиИФ (1), ООЛ (1) |